信然无油空压机一举打破世界品牌压缩机在芯片光刻机曝光机行业的垄断地位，成功为某高端芯片制造商的进口光刻机曝光机领域实现零的突破，标志着信然无油螺杆压缩机已经可以满足光刻机曝光机领域对空气的苛刻要求。

曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元。

光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

自从台积电真的断供华为，让其无高端芯片可用后，我们真的是不再抱有任何幻想。对于核心的芯片技术，只有掌握在自己手里才安全，否则随时都有可能被卡脖子。

面对美国的无理打压，国内很多企业都表示将投入巨资来研发芯片，包括阿里、小米、格力等巨头，以及其它很多芯片企业加入，一时间国内芯片行业欣欣向荣。在这里面表现较好的还是中芯国际，据其联席执行官梁孟松所说，7nm的研发工作已经完成。

然而，迈过了这道坎，却又迎来了另外一道坎，ASML的EUV光刻机却不卖给我们，背后又是美国在捣鬼。没有EUV光刻机，即使我们的制程达到了3nm也没用，根本就无法量产。

怎么办？还是得靠自己。过去两年来，接连看到看到类似“ASML坐不住了”，“ASML扛不住了”，“ASML再见了”的自媒体文章，点进去一看都是标题党，自我安慰。不过，也确实有一些实现了技术突破。

就在前段时间，南京大学研究出了宽禁带半导体pn结型EUV探测器。探测器是制造光刻机的一个关键零部件，之前使用的都是Si基紫外探测器，这种探测器存在不少缺陷，特别是对于较好的EUV光刻机，需要更好的技术。

如今这项技术被我国的研究团队所突破，未来将会使用在新一代光刻机上面。很多网友看到这项成果后，就认为我们也将可以生产EUV光刻机了，ASML地位将不保了，垄断要被打破了。

在光刻机关键技术上实现了突破，确实是一件值得高兴的事情，但我们还是要理性看待国内光刻机和ASML的差距。ASML是全球较好的光刻机制造商，其生产的EUV光刻机可以用于3nm的量产。而国内光刻机规模较大的制造商是上海微电子集团，仍然在28nm阶段，差距还是非常大。

目前，全球高端光刻机市场基本被ASML垄断。2021年ASML营收186.11亿欧元，每台EUV光刻机售价高达1.5亿欧元。对于这样一个利润丰厚的市场，谁都眼馋。因此，不少企业都在加紧技术研发，寻找替代EUV光刻机的设备。

佳能、铠侠等厂商就联合研发了NIL工艺，在不需要EUV光刻机的情况下，也能达到5nm。还有华为在进行光电芯片的研发，苹果、英特尔都在自研芯片封装技术，俄罗斯投入巨资想研发X射线光刻机。

不过，想超越或者取代ASML光刻机，没那么容易。中国工程院院士，著名集成电路专家吴汉明就说过，光刻机是全球化的结晶，光靠一个国家做不出来。

首先，光刻机的零部件有10多万个，非常复杂，供应商就有5000多家，来自全球40多个国家。其中来自荷兰本土的就有1600个，欧美其它国家的也有不少，亚洲的供应商也有上千家，但大多数来说日本、韩国、中国台湾，至于中国大陆没有看到公布的数据。

其次，一台光刻机需要很多技术，而且也来自世界各国，比如瑞典的轴承和数控机台、德国机械工艺和蔡司镜头、美国的光源设备和激光等等，这些技术，我们还不掌握，或者有比较大的差距。美国之所以对ASML有那么大的话语权，就是因为很多技术来自美企。

实际上，ASML非常看重中国市场，也想把更多的光刻机卖给中国。在2022年一季度，ASML就向中国市场出货了23台DUV光刻机。虽然还没有EUV光刻机，但DUV光刻机可以管够。

作为全球较大的芯片消费市场，ASML其实也担心，通过封锁的手段，只会加快我们自研的步伐，虽然暂时无法取代，但随着技术的进步，依赖性就会不断降低。如此一来，不但会丢失中国市场，还会出现一个强大的竞争对手。

在上个月，中国电子科技集团第九研究所传来喜讯，表示成功研制出了“宽频带同轴探针”。这个产品主要用来芯片的良率测试，是一个非常关键的工具。此前，这项技术被国外牢牢把控，如今实现了自主研发，无疑又是一大进步。

虽然我们无法立即制造出更好的光刻机，但在从每个关键技术上不断突破，也是很大的进步，如果我们掌握了光刻机的关键技术，一样可以左右光刻机的发展。所以，打破垄断还需逐个突破。

理性认识到国内光刻机与ASML的差距，才能更好地弥补差距。不要盲目的带节奏，沉下心好好进行技术研发才是硬道理。